近日天澤智能科技發展（天津）有限責任公司通過對過往產品的系統化改造升級，推出全新TZZN-1000型、TZZN-100型磁控離子濺射儀等產品及設備。此外天澤智科技能還推出定制設備服務，支持定制最大125毫米超大濺射靶頭的離子濺射儀，以及避免氧化反應的專用手套箱離子濺射儀等產品。
 

TZZN-1000型	TZZN-100型

 
通過掃描電子顯微鏡圖片分析，天澤智能科技發展（天津）有限責任公司最新推出的TZZN-100/1000系列，高分辨大倍率的圖像下鍍膜的均勻性完全可以媲美同類型的進口產品。
    整體含濺射主機和真空系統組成，濺射靶頭被設置成為一個二級濺射結構，通過均勻恒定的電場激發并電離氣體分子，形成穩定的回訪放電現象，被電離的離子和電子在這個電場下進行加速，從而使靶原子逃離靶材表面在樣品上面形成納米涂層。
 

改造前的濺射源（靶頭）TZZN-200/100型
改造后的濺射源（靶頭）TZZN-1000/CK/STX型

 
在改良過程中增加了一個恒定的磁場形成磁控約束方式，在輝光放電的過程中，帶電粒子在原來的電場加速狀態下，附件一個恒定的用磁場，利用帶電粒子的特性，從而達到約束粒子運動的方向，改變原有的運動變化，改善濺射源的工作效率。
 
外加磁場的設置方式可根據不同的需求進行改變，經過試驗天澤智能科技發展（天津）有限責任公司采取沉浸式的磁控方式，這種方式的優勢，對于控制離子的運動和靶材的利用效率最為有效。
 
其他的升級和便利化設計，也都在天澤智能科技發展（天津）有限責任公司的廣大客戶幫助下進行便利化，通用化的改造升級。（如下圖所示）
   
1.增加的靶頭的鉸鏈結構
2. 升降樣品臺結構設計
3. 電子計時的升級
4.外觀優化
5.增加自動放氣系統
6.改善密封系統更好的保護樣品室
   
截止目前我司最早推出的200型離子濺射單臺穩定使用時間已經長達10年，今日我司推出的新品離子濺射儀也定會繼承其高穩定、高可靠性的特點，從而更好的服務于廣大客戶。